一般而言，鍍膜在真空鍍膜機內以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度進行 (1 Torr = 1 公厘水銀柱高的壓力，大氣壓為 760 Torr)。其鍍膜膜厚約為 0.1 ~ 0.2 微米。

關于鍍膜的形成，首先利用強大電流將鍍膜源 (鎢絲) 加熱，然后把掛在鎢絲上的鋁片或鋁線熔解。鋁材從而蒸發、飛散到各方面并附著于被鍍件上。熔解的鋁為鋁原子，以不定形或液體狀態存在并附著于被鍍件上，經冷卻結晶后從而變為鋁薄膜。

因此設定鎢絲為定數時，由真空度至蒸發鋁的飛散方向、鎢絲的溫度，鎢絲到被鍍件的距離等;依其鍍膜條件，鍍膜的性能也除著改變而發生變化。

一如前述，鍍膜在10 –4 Torr左右下進行，如真空度過低時，其蒸發中的鋁遇到殘留的氣體或者碰著鎢絲被加熱時產生的氣體，發生沖突而冷卻，形成的鋁粒 (非常小的鋁粒子集合體) 會附著于被鍍膜件上。此時所形成的鍍膜因微細鋁粒中可能仍含有殘留氣體而令其失去光澤，也會大大降低鍍膜與底油的密著性。

B. 涂料及霧化：

依各種鍍膜條件形成不同的鍍膜。如前述，在現場作業最容易產生的問題是霧化現象。這種現象是有機高分子(涂膜)和金屬(鋁膜)的膨脹系數差異而發生。雖然可能由于涂料本質所導致，但一般而言，如果使用涂料的方法正確，霧化現象應該不會發生的。但是被鍍膜件的素材日新月異(包括再生料)，也可能會引起霧化。

容易引起霧化現象的原因有下述各點：